ধাতব সিলিকন পাউডার, বিভিন্ন কণার আকার সহ নির্দিষ্ট শিল্প এবং প্রযুক্তিগত অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য উপযুক্ত। কণার আকারটি তার প্রতিক্রিয়াশীলতা, প্রবাহতা এবং বিভিন্ন প্রক্রিয়াতে পারফরম্যান্সকে সরাসরি প্রভাবিত করে। নীচে কীভাবে বিভিন্ন আকার ব্যবহার করা হয় তার একটি ভাঙ্গন রয়েছে:
1. Coarse Powder (Particle Size >45 µm)
অ্যাপ্লিকেশন:
ফাউন্ড্রি এবং কাস্টিং:
ছাঁচ রিলিজ উন্নত করতে এবং ধাতব আনুগত্য প্রতিরোধ করতে বালির ছাঁচগুলিতে ব্যবহৃত হয়।
অ্যালুমিনিয়াম এবং ম্যাগনেসিয়াম অ্যালো কাস্টিংয়ে তরলতা বাড়ায়।
নির্মাণ:
তাপ প্রতিরোধের এবং কাঠামোগত স্থিতিশীলতার জন্য কংক্রিট বা অবাধ্য উপকরণগুলিতে যুক্ত।
ধাতুবিদ্যা:
ইস্পাত তৈরির ক্ষেত্রে ডিওক্সিডাইজার হিসাবে কাজ করে (বৃহত্তর কণাগুলি নিয়ন্ত্রিত অক্সিজেন অপসারণ নিশ্চিত করে)।
মোটা কেন?
নিম্ন পৃষ্ঠের অঞ্চলটি প্রতিক্রিয়াশীলতা হ্রাস করে, এটি বাল্ক অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য আদর্শ করে তোলে যেখানে অভিন্নতা এবং নিয়ন্ত্রিত প্রতিক্রিয়া হারগুলি গুরুত্বপূর্ণ।
2। মাঝারি গুঁড়ো (10-45 মিমি)
অ্যাপ্লিকেশন:
খাদ উত্পাদন:
লাইটওয়েট অ্যালো (যেমন, স্বয়ংচালিত অংশগুলির জন্য আল-সি) উত্পাদন করতে অ্যালুমিনিয়াম বা ম্যাগনেসিয়ামের সাথে মিশ্রিত।
ঘর্ষণ উপকরণ:
পরিধানের প্রতিরোধ এবং তাপ অপচয় হ্রাসের জন্য ব্রেক প্যাড এবং খপ্পরগুলিতে ব্যবহৃত।
থার্মাইট প্রতিক্রিয়া:
Ld ালাই বা ধাতব পরিশোধন ক্ষেত্রে উচ্চ-তাপমাত্রার প্রতিক্রিয়াগুলি সহজতর করে।
মাঝারি কেন?
প্রতিক্রিয়াশীলতা এবং হ্যান্ডলিং স্বাচ্ছন্দ্যে ভারসাম্য বজায় রাখে, এটি ধাতববিদ্যার প্রক্রিয়াগুলির জন্য উপযুক্ত করে তোলে যা মাঝারি পৃষ্ঠের মিথস্ক্রিয়া প্রয়োজন।
3। সূক্ষ্ম গুঁড়ো (<10 µm)
অ্যাপ্লিকেশন:
ইলেকট্রনিক্স এবং সেমিকন্ডাক্টর:
স্তরগুলি অন্তরক স্তরগুলির জন্য সিলিকন কার্বাইড (এসআইসি) বা সিলিকন নাইট্রাইড (সিএনএন) উত্পাদন করতে রাসায়নিক বাষ্প ডিপোজিশন (সিভিডি) এ ব্যবহৃত হয়।
রাসায়নিক সংশ্লেষণ:
সিলিকন, সিলেন এবং অর্গানসিলিকন যৌগগুলি উত্পাদন ক্ষেত্রে রিঅ্যাক্ট্যান্ট।
লিথিয়াম-আয়ন ব্যাটারি:
বর্ধিত চার্জ ক্ষমতা এবং চক্র জীবনের জন্য অ্যানোড উপাদান (যখন গ্রাফাইটের সাথে মিলিত হয়)।
ভাল কেন?
উচ্চতর পৃষ্ঠের ক্ষেত্রটি প্রতিক্রিয়াশীলতা বৃদ্ধি করে, দক্ষ রাসায়নিক বিক্রিয়াগুলি সক্ষম করে এবং ব্যাটারিগুলিতে উন্নত বৈদ্যুতিন রাসায়নিক কর্মক্ষমতা সক্ষম করে।
4। আল্ট্রাফাইন/ন্যানোপাউডার (<1 µm)
অ্যাপ্লিকেশন:
উন্নত সংমিশ্রণ:
শক্তি এবং লাইটওয়েট বৈশিষ্ট্যের জন্য মহাকাশ পদার্থগুলিতে (যেমন, কার্বন ফাইবার কম্পোজিট) ম্যাট্রিকগুলি শক্তিশালী করে।
সৌর কোষ:
উচ্চ আলো শোষণের জন্য ন্যানোস্ট্রাকচার্ড পৃষ্ঠগুলি তৈরি করতে পাতলা-ফিল্ম ফটোভোলটাইকগুলিতে ব্যবহৃত হয়।
অনুঘটক:
হাইড্রোজেন উত্পাদন বা দূষণকারী অবক্ষয়ের অনুঘটক প্রক্রিয়াগুলিকে সমর্থন করে।
কেন আল্ট্রাফাইন?
ন্যানোস্কেল কণাগুলি কোয়ান্টাম এফেক্টস এবং বর্ধিত অনুঘটক/ক্রিয়াকলাপ প্রদর্শন করে, যেমন শক্তি সঞ্চয় এবং অপটোলেক্ট্রনিক্সের মতো উচ্চ প্রযুক্তির অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য সমালোচনামূলক।
আকার নির্বাচনকে প্রভাবিতকারী মূল কারণগুলি
প্রতিক্রিয়া: ছোট কণাগুলি দ্রুত প্রতিক্রিয়া জানায় (যেমন, ব্যাটারি অ্যানোডস বনাম কাস্টিং ফ্লাক্স)।
প্রবাহতা: মোটা পাউডারগুলি স্বয়ংক্রিয় সিস্টেমে আরও ভাল প্রবাহিত হয় (যেমন, চুল্লিগুলিতে খাওয়ানো)।
ব্যয়: শক্তি-নিবিড় গ্রাইন্ডিং প্রক্রিয়াগুলির কারণে আল্ট্রাফাইন পাউডারগুলি ব্যয়বহুল।
সুরক্ষা: সূক্ষ্ম কণাগুলি বিস্ফোরণ ঝুঁকি তৈরি করে (জড় বায়ুমণ্ডল বা আর্দ্রতা নিয়ন্ত্রণ প্রয়োজন)।
আকার নিয়ন্ত্রণের জন্য উত্পাদন পদ্ধতি
Atomization: গলিত সিলিকন গলে এবং বিচ্ছিন্ন করে মাঝারি গুঁড়ো থেকে মোটা উত্পাদন করে।
বল মিলিং/গ্রাইন্ডিং: উচ্চ-প্রযুক্তি ব্যবহারের জন্য সূক্ষ্ম বা আল্ট্রাফাইন গ্রেডগুলিতে কণার আকার হ্রাস করে।
